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  • KT-Z1650PVD三氧化二鋁磁控濺射儀

    三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜。儀器結(jié)構緊湊,全自動控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術,進行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣層的制備工藝及性能研究,對于指導薄膜傳感器工藝設計及應用的快速發(fā)展,具有十分重要的理論意義及較好的工程應用價值。

    更新時間:2023-12-26
    產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
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  • KT-Z1650PVD小型離子濺射儀 鄭州 科探

    小型離子濺射儀 鄭州 科探KT-Z1650PVD在磁控濺射中,由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力,它們的運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動,其運動路徑變長,因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。

    更新時間:2024-03-27
    產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
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  • KT-Z1650PVD小型濺射儀

    小型濺射儀鄭州科探KT-Z1650PVD,能夠在非導電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu),鈀(Pd),鉑(Pt)和金/鈀(Au / Pd)的薄膜。 在較短時間內(nèi)即可形成具有細粒度的均勻薄膜,使樣品適用于掃描電子顯微鏡(SEM)分析。儀器結(jié)構緊湊,全自動控制,設計符合人體工程學,所得結(jié)果一致,可重復性高。

    更新時間:2024-03-27
    產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
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  • KT-Z1650PVD小型離子濺射儀 鄭州科探儀器

    小型離子濺射儀 鄭州科探儀器 噴金儀 廠家供應通過定時調(diào)節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜

    更新時間:2024-03-27
    產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
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  • KT-Z1650PVD小型離子濺射儀鄭州科探儀器

    小型離子濺射儀鄭州科探儀器 噴金儀 廠家供應通過定時調(diào)節(jié)預濺射功率及薄膜沉積功率,可對大部分金屬進行均勻物理沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜

    更新時間:2024-03-27
    產(chǎn)品型號:KT-Z1650PVD
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